我国国产芯片环节取得重要两大突破!

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文章最后更新时间:2023年05月04日已超过378天没有更新。

我国国产芯片环节取得重要两大突破!

芯片制造产业需要全球化的参与,其中美企在产业链中扮演重要的角色。许多顶级的芯片设计方案均由美企提供,另外应用材料,科磊和泛林集团等美企提供半导体设备。

美系技术在全球芯片产业链中有非常大的影响力,在芯片全球化发展历程中,美反其道而行之,对外部实施断供措施。如今反作用出现,国产芯片上游环节取得两大突破。

国产芯片环节取得重要两大突破

芯片的应用范围是非常广的,智能手机、电脑、电视、汽车等等都需要搭载芯片。根据终端设备的不同,搭载的芯片数量,种类也不一样,不过都离不开全球化的支持。

世界各国供应商参与不同的产业链环节,美国新思科技等提供EDA软件,被日本软银收购的ARM提供架构技术,还有荷兰ASML提供光刻机设备,最终被制造商造出芯片。

国产芯片环节取得重要两大突破

这是一个高度全球化的系统级工程,没有一个国家地区能独立完成芯片全环节的生产。

就算是韩国三星,能掌握芯片大部分的产业链环节,走IDM模式,也需要从日本进口光刻胶,从荷兰采购光刻机,并且将芯片产品卖到全球消费市场,实现产业稳定运营。

国产芯片环节取得重要两大突破

面对如此重要的芯片全球化,美并没有意识到自己的所作所为会带来什么。许多美企纷纷交出了差劲的财报,又陷入了裁员热潮,说明美企在承受芯片规则带来的后果。

芯片断供反作用出现了,促使产业链自研加速,国产芯片上游环节便取得了两大突破。

国产芯片环节取得重要两大突破

国创中心获批在南京建设,由东南大学,江北新区联合打造,在南京建成一座国家集成电路设计自动化技术创新中心。该中心会推动国产EDA的发展。

芯片上游环节的细分领域非常广泛,涉及到芯片设计软件,半导体设备和材料。其中在材料这一块,电子特气是不可或缺的。采用氖气,氙气等稀有气体,保障芯片稳定。

荷兰是用电子特气的大户,生产光刻机设备和进行产品反应都需要电子特气。https://www.27chshi.com/


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